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　　出手就是重磅！

　　近日，深圳新凱來工業機器有限公司在其官微宣布，將在3月底參加中國國際半導體展。這也是該公司的首次亮相。

　　新凱來宣布將在半導體展上發布多款新產品，包括EPI“峨眉山”產品、ETCH“武夷山”產品、CVD“長白山”產品、PVD“普陀山”產品、ALD“阿里山”產品，這些產品可以說都是半導體制造工藝領域的“高端貨”。分析人士認為，新凱來有可能再度拉高中國科技的熱度。

　　新凱來在其官微稱，作為核心半導體裝備提供商，新凱來以技術創新為根基，致力于先進半導體裝備的開發與制造，為產業注入強勁動能。天眼查顯示，新凱來工業機器背后大股東是新凱來技術有限公司，而新凱來技術的間接大股東是深圳市重大產業投資集團，其董事長戴軍亦是國家大基金二期的監事，也是中芯國際集成電路制造（深圳）有限公司的董事。

　　即將亮相

　　在新凱來官微上，只有一條消息：新凱來邀您共赴SEMICON China 2025。這家神秘且低調的中國高科技產業鏈上的重要公司終于要走向臺前。而且，新凱來將在這次亮相中展出重磅產品。

　　據悉，此次新凱來將展出EPI“峨眉山”產品、ETCH“武夷山”產品、CVD“長白山”產品、PVD（普陀山）產品、ALD“阿里山”產品等產品。EPI外延層是半導體制造中的重要技術，尤其是在先進制程和第三代半導體領域。ETCH蝕刻是半導體制造工藝，微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一道相當重要的步驟。是與光刻相聯系的圖形化（pattern）處理的一種主要工藝，目前主要由國際主頭主導；CVD化學氣相沉積是半導體制造中需求量最大的設備之一，PVD物理氣相沉積、ALD原子層沉積等都是半導體制造工藝當中非常重要的高端貨。

　　低調的專利大戶

　　此前，新凱來的曝光度非常低。網上大多數消息都是其專利信息。3月18日，國家知識產權局信息顯示，深圳市新凱來工業機器有限公司申請一項名為“反射結構、熱輻射單元及加熱裝置”的專利，公開號CN 119620268 A，申請日期為2025年1月。

　　專利摘要顯示，該申請涉及光學設備技術領域，尤其涉及到一種反射結構、熱輻射單元及加熱裝置。反射結構具有容納槽，容納槽具有第一側壁、第二側壁和與所述第一側壁和所述第二側壁連接的底壁，所述第一側壁包括第一拋物面，所述第二側壁包括第二拋物面，所述底壁包括第三拋物面，所述第三拋物面的焦距分別大于所述第一拋物面的焦距和所述第二拋物面的焦距。本申請中的反射結構占用的空間較小，且反射結構反射并匯聚光線的量較多，以提高反射結構的加熱效率。

　　去年12月，國家知識產權局信息顯示，深圳市新凱來技術有限公司申請一項名為“靜電卡盤及工藝設備”的專利，公開號CN 119069414 A，申請日期為2024年11月。

　　專利摘要顯示，本申請涉及工藝設備技術領域，尤其涉及到一種靜電卡盤及工藝設備。靜電卡盤包括基底、第一絕緣介質層和第二絕緣介質層，第一絕緣介質層設置于基底上，第二絕緣介質層設置于第一絕緣介質層背離基底的一側；其中，第一絕緣介質層內具有至少一個電極對，每個電極對包括一個正電極和一個負電極，第二絕緣介質層和第一絕緣介質層在基底的投影中，第二絕緣介質層的投影至少部分與一個電極對的投影交疊；第二絕緣介質層的電阻率小于第一絕緣介質層的電阻率。本申請中的靜電卡盤表面聚集的凈電荷釋放速較快，可以降低待加工器件從卡盤表面脫離的難度。

　　誰是新凱來？

　　參加上述展覽的公司是新凱來工業機器有限公司，而其大股東是深圳市新凱來技術有限公司和深圳市均隆高新產業創業投資中心。新凱來工業機器和新凱來技術的法定代表人都是余海。

　　據新凱來技術的官網顯示，該公司致力于半導體裝備及零部件、電子制造設備的研發、制造、銷售與服務。為半導體行業客戶提供創新技術與產品解決方案，持續支撐行業健康發展。將國內最優秀的電子制造解決方案和生產測試裝備推介給行業客戶，促進產業能力提升。

　　公司核心團隊具備20年以上電子設備技術開發經驗，并聯合了眾多國內半導體制造設備和零部件合作伙伴，為國內半導體設備廠、FAB廠、電子電器設備廠、研究機構提供先進的解決方案，相關產品廣泛應用于國內頂級制造企業和研究、測試機構。

　　據天眼查，新凱來工業機器成立于2022年，注冊資本超過10億元人民幣。而新凱來技術成立于2021年，企業注冊資本達15億元人民幣，其大股東是深圳市深芯恒科技投資有限公司（控股100%），而深芯恒科技的大股東是深圳市重大產業投資集團有限公司（控股100%），重大產業投資集團的大股東則是深圳國資委。重大產投的董事長戴軍是國家集成電路產業投資基金二期股份有限公司的監事，也是中芯國際集成電路制造（深圳）有限公司的董事。重大產投的另一位高管黃秀章則是中芯國際集成電路制造（深圳）有限公司的監事。可以說，新凱來大股東層面的產業背景的確是相當深厚。

　　責編：戰術恒

　　排版：劉藝文

　　校對：王蔚

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責任編輯：石秀珍 SF183